製品情報
ホットプレート/クールプレート
卓上型でありながら、高性能。 幅広いプロセスに対応。
自動装置で採用されているさまざまな技術を採用。
ホットプレート単体で高いプロセス性能を実現。
多くのフォトリソプロセスでは、ホットプレート性能が重要なファクター。特に、高い膜厚均一性・線幅均一性が要求される先端プロセスや、温度依存性が高い特殊材料では、ホットプレート性能の違いで、大きな差が出ます。
ピンアップ機構により、正確な処理時間管理ができ、高い均一性を確保。また、ウエハー投入・抜き取り作業もスムーズ。
特長
- 処理時間をタイマー制御し、ウエハー間でのバラつきのない安定したプロセスを実現。
- 評価環境に合わせ、幅広いウエハーサイズに対応。
- 複数のプロキシミティボールで、すべてのウエハーサイズに対し均一なギャップを確保。
- 8インチには横滑り防止のためウエハーガイドを搭載。
仕様
ホットプレート
| ワークサイズ | 3～8インチ |
|---|---|
| 温度範囲 | 常温～250℃＜Stdモデル＞、常温～350℃＜High Tempモデル＞ |
| 温度分布 | R≦0.5℃ ※ 表面温度で110℃（安定時）、13ポイントでの実力値 |
| ホットプレート材質 | アルミニウム(A5052) ・ 硬質アルマイト処理 |
| リフトピン駆動 | 上・下段の2段 タイマー制御 |
| プロキシミティ | 3カ所仕様モデル、6カ所仕様モデル |
| ヒーター | マイカヒーター AC100V 600W |
| ホットプレート形状 | 丸型Φ216mm |
| 寸法 | 300mm（幅） × 350mm（奥） × 300mm（高） |
クールプレート
| ワークサイズ | 3～8インチ |
|---|---|
| クールプレート材質 | アルミニウム鋳物(AC4C)・カニゼンメッキ処理 |
| リフトピン駆動 | 上・下段の2段 タイマー制御 |
| プロキシミティ | 3カ所仕様モデル、6カ所仕様モデル |
| 冷却方式 | 用力により空冷、水冷のいずれかを選択 |
| クールプレート形状 | 丸型Φ220mm |
| 寸法 | 300mm（幅） × 350mm（奥） × 300mm（高） |
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- 膜厚測定装置は、株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズの取扱製品です。